此外，光刻机制造需要庞大的投入和长期积累，而国内大型半导体设备制造商在此方面的经验和技术积累还比较欠缺。

光刻机技术难度大，研发周期长。光刻机是一种高精密、高技术含量的设备，其研发和制造周期通常需要十年以上，需要庞大的研发团队和巨大的资金投入。

制造一台光刻机，究竟有多难现在人们正在寻找除水以外具有更大折射率的液体但这种液体要求非常严格与光刻胶没有反应，光透过率高，折射率高，还要稳定目前已研发出的第二代浸入液的折射率为164你可能觉得把整个光学系统浸没在水中很简单，但其实它有很多复杂的问题需要解决：浸入液如何充入、会不会对镜头造成污染，光刻胶在液体中的稳定性，会不会产生气泡，液体如何保证高纯度等。

科学家解决了这些所有问题，才让浸入式光刻机目前成为芯片生产中最广泛使用的光刻机之一。

光学设计难题二：精确成像在现实中，除了要尽力追求衍射的极限，还要严格控制像差。

像差可以理解为理想的成像与实际成像的差距控制像差一般需要很多透镜共同作用，例如一个单反镜头有五到七枚透镜共同成像那光刻机需要多少枚镜头呢，答案是29枚。

近60個光学表面，最大直径达到80厘米，500kg的重量，组成了duv光刻机的投现在江辰掌握了更先进的光刻机技术，他一定要制造出来从今年开始他要开始布局光刻机产业。

光刻机有十万多零部件，需要几千家供应商所以他要开始布局，也就是说他要创造几千家不同配件的公司这个工程量太大了。

光靠他一个人真的难以实现五于是他想到和国家合作，这个念头升起，他就瞬间决定了江辰让服务员把儿子的衣服拿出去洗了，烘干后再送回来。